分散型の真空供給と集中真空システムの比較
多くのケースで、真空プロセスへの真空供給は分散型の配置が行われています。つまり、真空を必要とする全ての機械は個別に真空ポンプを装備しています。これらの真空ポンプは常にフル回転で運転されており、大量のエネルギーを消費しています。真空を必要とするプロセスまたは機械が複数ある場合は、真空供給の集中化を検討すべきです。分散型と比較し、集中真空システムを利用した場合、必要な排気速度が概して小さくなるため、真空ポンプの台数を減らすことが可能になります。
すべてのアプリケーションで、最大限の排気速度が同時に必要となるわけではありません。集中真空システムは、需要に応じて供給する仕組みで制御されています。つまり、全体の需要に合わせ、システムに組み込まれる真空モジュールのオン、オフを切り替えることで、真空システムのパフォーマンスを制御しています。結果として、大幅な省エネが実現します。
集中真空システムの導入を決める前に、関連するすべてのパラメーターを個別に評価する必要があります。具体的なプロセス要件に応じて、完璧なソリューションを定義することができます。