kapacitetsoptimering för tillämpningar med bypassventil
Pålitlig
Solid lamelldesign, robust konstruktion, pålitlig under varierande driftsvillkor, barriärgasanslutning
Hög kapacitet
Hög volymetrisk effektivitet, högt sluttryck, ökar kapaciteten för vakuumsystemet upp till faktor tio, integrerad bypassventil, särskilt utformad för grov- och finvakuumtillämpningar
Flexibel
Kan flänsmonteras direkt i systemet vid valfri position, ökar kapaciteten för alla typer av förpumpar, med vertikalt eller lateralt utblås, perfekt lämpad för kemiska processer
Tekniska specifikationer
Marknader och tillämpningar
Analys och R&D
-
Frystorkning, lyofilisering
Fordon och transport
-
Dammsugning/delar som ska rengöras
-
Läckagedetektering och EoL-testning
-
Värmebehandling
-
Vakuumformgjutning
-
E-strålesvetsning
-
3D-printing
Kemi- och läkemedelsindustrin
-
Förpackning
-
Förångning, torkning
-
Destillation, återvinning av lösningsmedel
-
Frystorkning, lyofilisering
Elkraftsgenerering
-
Rening av transformatorolja
-
Transformatortorkning
-
Grön energiproduktion
livsmedelsförpackning
-
Förpackningsmaskiner för runda bord/karuseller
-
Kammarmaskiner, fristående
-
Kammarmaskiner, stora industri
-
Trågtätning
-
Termoformande förpackningsmaskiner – tätnings/evakueringsstation
-
Centralvakuumsystem
Livsmedelsbearbetning
-
Vakuumkylning
-
Frystorkning
Väte
-
Läckagedetektering och EoL-testning (master)
Produktion av litium-ion-batterier
-
Läckagedetektering och EoL-testning (master)
-
Återvinning
-
Vakuumtorkning
Metallurgi
-
Värmebehandling
-
Vakuumhårdlödning/-lödning
-
Vakuumsintring
-
3D-printing
-
E-strålesvetsning
Läkemedelsindustri
-
Frystorkning, lyofilisering
-
Förångning, torkning
-
Förpackning
-
Destillation, återvinning av lösningsmedel
Kylningsenhet
-
Läckagedetektering och EoL-testning
-
Vakuumtorkning
Tekniska gaser
-
Kondensering
-
Gastransport
-
Isolering vakuum
-
Vid buteljering
Tunnfilmsbeläggning
-
Ytbeläggning
-
Optisk beläggning
-
Slitageskyddsbeläggning
Designtillval
-
ATEX – för användning i områden med explosionsrisk.