在涂层中,真空起着什么作用?
真空镀膜在真空腔室中进行, 对腔体施加中真空或高真空,排出氧气和氮气等污染物, 以创造清洁的环境。根据真空镀膜工艺,将反应气体或固体原材料蒸发并沉积在基底表面。真空镀膜可形成厚度从一个原子到几毫米的模件涂层。不同材料的多个涂层可组合形成光学镀膜。这种涂层设计用于操纵光的透射、反射和吸收,以增强光学性能或实现特定的光学特性。
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真空镀膜可以 改变表面以提高性能和延长使用寿命。
真空镀膜,也称为薄膜沉积,是一种在真空下将薄层材料沉积在基底表面上的过程。从金属到木业、塑料和皮革。涂层有助于防止磨损、摩擦、高温和其他恶劣条件。
COBRA 和 R5 真空泵与 PUMA/PANDA 罗茨泵的结合,可满足真空镀膜工艺的要求。我们提供单台真空泵及完整的真空系统。在为您的流程选择合适的真空解决方案时,应考虑若干因素。
如果您想了解适合您需求的真空泵型号,请使用我们的产品查找器,或联系 Busch 普旭真空专家。
用于冶金行业的产品:
用于分析和研发的产品:
有三种主要类型的涂层。
PVD 和 CVD 都是真空沉积方法。两者的主要区别在于 PVD 流程中的涂层材料为固体或液体,而 CVD 流程中的涂层材料为气体。ALD 是一种特殊的 CVD 形式,注重一次沉积一个原子层材料。
在真空环境中,真空镀膜系统将所需涂层材料的薄层沉积到基底上, 使涂层具备高纯度和粘附性。利用真空可实现原材料的蒸发,避免氧化,并为涂层沉积提供无污染的环境。在化学镀膜工艺中,还需要真空来控制反应性。
真空腔室在镀膜工艺中起着至关重要的作用。它们可产生出色的低压环境,从而将薄膜和其他涂层沉积到基底上。通过从腔体中除去氧气和氮气,可将涂层材料引入、蒸发并以受控方式浸渍到基底的表面上。真空腔室还可防止外部来源的污染,如灰尘和其他碎屑, 确保成品的高质量和一致性。
所需的真空度取决于原材料和涂层质量, 每种工艺都有不同的要求。联系 Busch 普旭专家,了解适合您需求的真空度。
真空镀膜具有若干优点,包括:
半导体
在半导体行业,真空镀膜可延长耗材的使用寿命,如基底夹具和固定夹具,并减少腔体停机时间。材料范围从熔融石英到酸盐稳定立方氧化锆。这些涂层具有光学透明度和化学不活性,可提高耐腐蚀性、耐用性和运行可靠性。
医疗设备
采用黑色氮化钛的 PVD 涂层已成为医疗装备的标准。它具有减少摩擦、抗微生物特性等优势,并为镍敏感患者提供化学屏障。
航空航天
航空航天零件必须具有很高的耐磨性,才能以每小时数百公里以上的速度飞越天空。对于承受高温、摩擦和其他恶劣条件的零件而言,真空涂层至关重要。
汽车行业
腐蚀、生锈和发出刺耳声而断裂,只是真空涂层可以防止问题的一部分。对转向柱组件、排放密封圈、制动夹和许多其他零件进行涂层,有助于提高汽车零件的耐用性和性能。