Busch Group 旗下公司在 2024 中国台湾半导体设备材料展览会（Semicon Taiwan）上联袂亮相

在“终极产品系列”与“全方位晶圆厂解决方案”主题引领下，参观者可以深入探索 Busch Group 的综合性产品组合。在此次展会上展示了真空泵、污染管理系统、检漏仪、阀门、尾气处理解决方案以及全面的晶圆厂解决方案。这些产品可满足台湾地区半导体行业不断变化的需求。Pfeiffer Vacuum 台湾地区总经理 Neil Chen 表示：“我们提供全面的真空晶圆工厂解决方案，使客户能够可靠地提高产量。同时，我们也在环境、社会和公司治理（ESG）方面推动卓越的合作伙伴关系。”

无与伦比的真空和尾气处理解决方案

在展览会的众多精彩展示中，几款创新产品脱颖而出：Pfeiffer Vacuum 的 ASM 392 配备了集成式涡轮分子真空泵，符合 SEMI S2 安全标准，并针对快速抽真空以及大型测试对象的短响应时间进行了优化。其干式、无摩擦前级泵和强大的高真空泵使其成为在洁净室环境中进行测试的理想之选。

Pfeiffer Vacuum 的 ATH 2804 M 磁悬浮涡轮分子真空泵以其紧凑设计和高气体吞吐量，成为半导体制造工艺的理想选择。HiPace 3400 IT 是同类产品中最紧凑的涡轮泵zh之一，专为要求严苛的离子植入应用而设计。DN 320 法兰尺寸的设计显著提升了对工艺气体的抽速，增幅高达 30%。其独特的轴承技术理念和经特殊涂层处理的转子设计为工艺流程和泵体提供了空前的耐用性和运行可靠性。

Busch 普旭的 COBRA NX 0950 A PLUS 是一款值得信赖的干式真空泵，采用久经验证的螺杆真空技术，不但维护量少，而且运行效率高。 作为一款具备远程控制、状态检测和通信功能且全面互联的真空泵，它已为工业 4.0 时代做好了充分准备，非常适合作为中央真空系统的核心。

以数字形式呈现的 centrotherm clean solutions 高温热处理系统融合了火焰尾气处理的广泛工艺适应性和等离子尾气处理无需燃料的优势。该系统运行成本低，二次排放少，并且在极低的氮氧化物排放水平下，能够以行业领先的标准分解分子工艺气体 NF3。这一系统为化学气相沉积（CVD）和金属蚀刻工艺提供了可持续的解决方案，减少碳足迹。

在 Semicon Taiwan 展览会上，参展者有机会与来自 Busch 普旭、Pfeiffer Vacuum 以及 centrotherm clean solutions 的专家团队面对面交流。这次活动为参展者们提供了与行业领袖互动的机会，并深入了解真空和尾气处理技术的最新进展。