Os otimizadores de desempenho estanques para aplicações de vácuo médio e alto
Fiável
Design de lóbulo especial para prevenir os depósitos de pós e partículas, construção robusta feita de material GGG40, estanque
Alto desempenho
Desenvolvido especialmente para aplicações exigentes nas faixas de vácuo médio e alto, incluindo os processos de semicondutores com pós e poeiras, excelente eficiência volumétrica
Flexível
Desempenho fiável sob as mais diversas condições de funcionamento, incrementa o desempenho de todo o tipo de bombas primárias
Especificações técnicas
Mercados e aplicações
Produção de ecrãs planos
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Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
Produção de semicondutores
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Exigente
Indústria da energia solar
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Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)