A nova geração de bombas de vácuo a seco para processos exigentes
Alto desempenho
Design de parafuso avançado, excelentes características de funcionamento, acelerador de vácuo integrado, perfeitamente adequadas para deposição de vapor químico, recozimento térmico rápido ou deposição de camada atómica
Eficientes
Baixo custo de propriedade, manutenção mínima, intervalos de manutenção longos, elevado tempo de atividade, refrigeração indireta eficiente por água
Compacta
Design compacto adaptado ao local de instalação, motor monobloco montado diretamente, bomba primária e booster de vácuo combinados numa estrutura de suporte compacta
Especificações técnicas
Mercados e aplicações
Manuseamento de biogás
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Em atualização – adsorção por alteração de pressão
Produção de ecrãs planos
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Díodo orgânico emissor de luz (OLED)
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Câmaras de bloqueio de carga
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Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
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Deposição física de vapor (PVD)
Fabrico de baterias de iões de lítio
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Desgaseificação
Produção de semicondutores
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Médio
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Exigente
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Ligeiro
Indústria da energia solar
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Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
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Câmaras de bloqueio de carga
Acessórios
- Versão opcional com processamento de pó disponível