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利用真空助力半导体制造

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Busch 普旭的多款真空泵已在众多一流的半导体晶圆厂中运行,并以高可靠性而闻名, 这要归功于多年来我们始终关注半导体合作伙伴的需求及其工艺要求。

让我们来指导您找到符合您的工艺要求的理想解决方案。

我们为半导体制造业提供的解决方案

Busch 普旭的真空解决方案是众多半导体应用值得信赖的选择。高可靠性、低拥有成本和智能半导体设备通信都是绝对必要的, 无论是在 load lock 腔还是严苛的颗粒生成工艺中。我们为全球多个国家及地区的优秀半导体晶圆厂提供真空系统, 并能够提供全方位的现场支持。
COBRA TORRI VACTEST TAPIR
洁净(load lock 腔和晶片传送室、计量、平版印刷术)
一般苛刻(PVD 工艺、PVD 预清洁、RTA、剥离 / 灰化、氧化物刻蚀、硅刻蚀)
严苛(金属刻蚀、植入源、HDP、CVD、RTP、外延、SA CVD、MO CVD、PE CVD、LP CVD、ALD)

案例研究

  • 通过预防性真空服务避免半导体工厂出现计划外停机

    通过预防性真空服务避免半导体工厂出现计划外停机

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