Vakuumbeläggning

Vakuumbeläggning, även känt som tunnfilmsdeponering, är en process där tunna materialskikt deponeras på ett substrats yta. Från metall till trä, plast och läder. Beläggningar hjälper till att skydda mot slitage, friktion, värme och andra svåra förhållanden.

COBRA och R5 vakuumpumpar, i kombination med PUMA/PANDA vakuumboostrar, uppfyller kraven för beläggningsprocesser. Vi erbjuder såväl individuella vakuumpumpar och kompletta vakuumsystem. Flera faktorer bör tas i beaktande för att välja lämplig vakuumlösning för din process.

För att ta reda på vilka vakuumpumpar som passar dina behov bäst kan du använda vår produktsökare för att jämföra våra överensstämmande produkter eller kontakta våra Busch-experter.

Bearbetning av produkter för metallurgi:
jämför produkter

Bearbetning av produkter för analys och R&D:
jämför produkter

Det finns tre huvudtyper av beläggningar.

Fysisk ångdeposition (PVD)

Ett flytande eller massivt källmaterial förångas inuti en vakuumkammare och deponeras på ytan av ett substrat. Substratet placeras noggrant i rätt position och roteras för att säkerställa att rätt områden beläggs. Detta leder till en impregnerad beläggning av hög kvalitet som inte flisar eller spricker med tiden. Kranar, smycken och mikroelektronik är bara några exempel på produkter som kan ha en PVD-beläggning.

Kemisk ångdeponering (CVD)

CVD-processer använder en gasformig ångkälla. En flyktig prekursor förs in i en vakuumkammare och värms upp till en specifik reaktionstemperatur. När temperaturen stiger reagerar eller sönderdelas prekursorgasen i substratet och förenas direkt med materialytan. CVD-beläggning används inom halvledarindustrin av tillverkare av solcellspaneler för att skapa ultratunna filmer som ansvarar för prestandan hos moderna solceller. Ofta används beläggningsprocessen även på verktygsmaskiner och integrerade kretsar i apparater som telefoner och TV-apparater.

Atomlagerdeponering (ALD)

ALD möjliggör exakt och enhetlig deponering av ultratunna lager på en mängd olika substrat. En speciell uppsättning tidsstyrda kemiska reaktioner används för att skapa en film med noggrannhet på atomnivå. Detta resulterar i beläggningar med enastående enhetlighet och renhet. Det är en av de mest omfattande typerna av beläggningar. ALD-beläggningar används för olika tillämpningar, från inkapsling av kirurgiska instrument och implantat med titanoxid till metallbeläggningar för finmekanik och klockdelar.

Både PVD och CVD är vakuumdeponeringsmetoder. Den huvudsakliga skillnaden mellan dem är att beläggningsmaterialet är i fast eller flytande form i PVD-processer och i gasform i CVD-processer. ALD är en specialiserad form av CVD som fokuserar på att deponera ett atomlager i taget av materialet.

Vakuumbeläggningssystem möjliggör deponering av tunna skikt av ett önskat beläggningsmaterial på ett substrat i en vakuummiljö. Detta ger en hög grad av renhet och vidhäftning av beläggningen. Vakuum används för att möjliggöra förångning av källmaterial, undvika oxidering och ge en optimal miljö fri från kontaminering för deponering av beläggning. Vid kemiska beläggningsprocesser krävs även ett undertryck för att kontrollera reaktiviteten.

Vakuumkammare spelar en avgörande roll i beläggningsprocesser. De skapar den optimala lågtrycksmiljön för deponering av tunna filmer och andra beläggningar på ett substrat. Genom att avlägsna syre och kväve från kammaren kan beläggningsmaterialet föras in, förångas och impregneras på ytan av ett substrat på ett kontrollerat sätt. Vakuumkammare förhindrar även kontaminering från externa källor, såsom damm och annat skräp. Detta säkerställer hög kvalitet och enhetlighet hos den färdiga produkten.

Den nödvändiga vakuumnivån varierar beroende på källmaterialet och beläggningsskiktets kvalitet. Varje metod har olika krav. Kontakta våra Busch-experter för att ta reda på vilken vakuumnivå som passar dina behov bäst.

Det finns flera fördelar med vakuumbaserade beläggningsmetoder, däribland:

En nackdel, beroende på källmaterialet, är att deponeringshastigheten kan vara långsam.