Обновите браузер.

Возможно, вы используете устаревшую версию браузера Microsoft Edge. Обновите браузер, чтобы получить доступ ко всем функциям веб-сайта Busch.

Производство полупроводников с использованием вакуума

semicon_stage_foto

Вакуумные насосы Busch применяются на ведущих полупроводниковых предприятиях и получили широкое признание благодаря их надежности. Это результат многолетнего опыта сотрудничества с нашими партнерами по производству полупроводниковых материалов и соблюдения их требований процесса.

Позвольте нам помочь вам найти идеальное решение для ваших требований процесса.

Услуги для производства полупроводников

  • arpqp_headerimage_1920x720px_72dpi_rgb
    ARPQP

    Новый сервис по восстановлению вакуумных насосов, предоставляемый компанией Busch. Специально для рынка полупроводников и плоских панелей.

    Узнать больше
  • webcontent_882_stage_767x511px
    Комплексное управление Sub Fab

    Комплексное сервисное решение на месте для безопасной и стабильной производственной среды на вашем предприятии по производству полупроводников.

    Узнать подробнее
  • arpqp_success_story
    Semiconductor service locations

    Find your semiconductor service location.

    Learn more

НАШИ РЕШЕНИЯ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Вакуумные решения компании Busch — оптимальный выбор для любых случаев применения полупроводников. Где постоянно требуются высокая надежность, низкая стоимость владения и информационный обмен с интеллектуальными инструментами из полупроводниковых материалов. От камер загрузочных шлюзов до процессов генерации частиц с самыми тяжелыми условиями эксплуатации. Мы обеспечиваем ведущие полупроводниковые предприятия по всему миру вакуумными системами. И предлагаем послепродажное обслуживание непосредственно на объекте из одного источника.
COBRA TORRI VACTEST TAPIR
Легкие (камеры загрузочных шлюзов и передаточные камеры, метрология, литография)
Средние (процессы PVD, предварительная очистка PVD, RTA, зачистка/шлифовка, травление оксида, травление кремния)
Тяжелые (травление металла, источник при ионной имплантации, HDP, CVD, RTP, эпитаксия, SA CVD, MO CVD, PE CVD, LP CVD, ALD)

Примеры применения

  • Предотвращение незапланированных простоев на предприятиях по производству полупроводников благодаря профилактическому обслуживанию вакуумного оборудования

    Предотвращение незапланированных простоев на предприятиях по производству полупроводников благодаря профилактическому обслуживанию вакуумного оборудования

    Узнать подробнее

НУЖНА ПОМОЩЬ В ПОИСКЕ ПРАВИЛЬНОГО РЕШЕНИЯ?