ブラウザを更新してください。

お使いのMicrosoft Edgeブラウザは最新版ではありません。Buschのウェブサイトを十分にご活用いただくには、ブラウザの更新が必要です。

半導体の製造に使われる真空

semicon_stage_foto

Buschの真空ポンプは、業界をリードする半導体工場で採用され、その信頼性が高く評価されています。これは、長年にわたり、半導体業界のパートナーのニーズとプロセス要件に耳を傾けてきた結果です。

お客様のプロセス要件に最適なソリューションをご提案いたします。

Busch Groupで半導体向けサービスソリューションを見つける

真空技術のグローバルリーダーであるBusch Groupは、2つの専門ブランド、Busch Vacuum SolutionsとPfeiffer Vacuum+Fab Solutionsを擁しています。両ブランドにより、半導体業界向けに最適化された真空ソリューションおよびサービスを包括的に提供しています。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutionsは、高真空および超高真空領域、ならびにリーク検知分野において、特に半導体用途に特化した専門技術を有しています。長年にわたり半導体業界で培ってきた実績に基づき、最適なサービスを提供します。真空ポンプのリマニュファクチャリングからサブファブの運用管理に至るまで、Pfeifferが半導体プロセスを確実にサポートします。

半導体産業向けサービス

  • con23_293_newimagelandingpagesemiconsemciconlocation

    半導体サービス拠点

    お近くの半導体サービス拠点を検索してください。

    詳細情報

半導体製造向け当社のソリューション

Buschの真空ソリューションは、半導体産業のあらゆるアプリケーションに対応する信頼性の高い選択肢です。高信頼性、低所有コスト、高性能な通信機能が必須の産業はお任せください。ロードロックチャンバーから、ナノ粒子合成のような過酷なプロセスまで対応可能です。当社は世界各地の半導体リーディングカンパニーに真空システムを提供しています。また、採用いただいたお客様には設備のオンサイトサービスも一括してお任せいただけます。
VACTEST
ライトプロセス(ロードロックおよびトランスファーチャンバー、メトロロジー、リソグラフィー)
ミディアムプロセス(PVDプロセス、PVDプリクリーン、RTA、ストリップ/アッシング、酸化エッチング、シリコンエッチング)
ハーシュプロセス(金属エッチング、イオン注入、HDP、CVD、RTP、エピタキシー、SA CVD、MO CVD、PE CVD、LP CVD、ALD)