半導体の製造に使われる真空
Buschの真空ポンプは、業界をリードする半導体工場で採用され、その信頼性が高く評価されています。これは、長年にわたり、半導体業界のパートナーのニーズとプロセス要件に耳を傾けてきた結果です。
お客様のプロセス要件に最適なソリューションをご提案いたします。
COBRA | TORRI | VACTEST | TAPIR | |
ライトプロセス(ロードロックおよびトランスファーチャンバー、メトロロジー、リソグラフィー) | ✓ | ✓ | ✓ | ✓ |
ミディアムプロセス(PVDプロセス、PVDプリクリーン、RTA、ストリップ/アッシング、酸化エッチング、シリコンエッチング) | ✓ | ✓ | ✓ | |
ハーシュプロセス(金属エッチング、イオン注入、HDP、CVD、RTP、エピタキシー、SA CVD、MO CVD、PE CVD、LP CVD、ALD) | ✓ | ✓ | ✓ |