Vakuumbelegging

Vakuumbelegging, også kjent som tynnfilmdeponering, er en prosess der tynne lag av materiale deponeres under vakuum på overflaten av et underlag. Fra metall til tre, plast og lær. Belegg bidrar til å beskytte mot slitasje, friksjon, varme og andre krevende tilstander.

COBRA- og R5-vakuumpumper, i kombinasjon med PUMA/PANDA-vakuumboostere, oppfyller kravene til vakuumbeleggingsprosesser. Vi leverer både individuelle vakuumpumper og komplette vakuumsystemer. Flere faktorer bør tas i betraktning ved valg av riktig vakuumløsning til din prosess.

For å finne ut hvilke vakuumpumper som passer best til dine behov, kan du bruke produktfinneren til å sammenligne produktene våre eller kontakte våre Busch-eksperter.

Maskineringsprodukter til metallurgibransjen:
sammenlign produkter

Maskineringsprodukter til analyse og FoU:
sammenlign produkter

Det finnes tre hovedtyper belegging.

Fysisk dampdeponering (PVD)

Et flytende eller solid kildemateriale fordampes inne i et vakuumkammer og avsettes på overflaten av et underlag. Underlaget plasseres i riktig posisjon og roteres for å sikre at de riktige områdene belegges. Dette resulterer i et impregnert belegg av høy kvalitet, som ikke fliser eller sprekker over tid. Vannkraner, smykker og mikroelektronikk er bare noen få eksempler på produkter som kan ha PVD-belegg.

Kjemisk dampdeponering (CVD)

CVD-prosesser bruker en gassholdig dampkilde. En flyktig forløper føres inn i et vakuumkammer og varmes opp til en spesifikk reaksjonstemperatur. Etter hvert som temperaturen øker, reagerer eller brytes forløpergassen ned i underlaget og binder seg direkte til materialets overflate. CVD-belegg brukes i halvlederindustrien av produsenter av solcellepaneler for å lage ultratynne filmer som er ansvarlige for ytelsen til moderne solceller. Beleggingsprosessen brukes også ofte på maskinverktøy og integrerte kretser i anordninger som telefoner og fjernsynsapparater.

Atomlagsdeponering (ALD)

ALD muliggjør presis og jevn avsetning av ultratynne lag på en rekke ulike underlag. Et spesielt sett med tidsstyrte kjemiske reaksjoner brukes til å lage en film med nøyaktighet på atomnivå. Dette resulterer i belegg som utviser utmerket uniformitet og renhet. Det er en av de mest omfattende beleggingstypene. ALD-belegg brukes til ulike bruksområder, fra innkapsling av kirurgiske anordninger og implantater med titanoksid til metallbelegg for finmekanikk og klokkedeler.

Både PVD- og CVD er vakuumdeponeringsmetoder. Hovedforskjellen mellom dem er at belegget er solid eller flytende i PVD-prosesser, og i gassform i CVD-prosesser. ALD er en spesialisert form for CVD med fokus på å deponere materialer i ett atomlag om gangen.

Systemer for vakuumbelegging gjør at tynne lag av ønsket beleggingsmateriale avsettes på et underlag i et vakuummiljø. Dette gir en høy grad av renhet og vedheft av belegget. Vakuum brukes til å muliggjøre fordamping av kildematerialer, unngå oksidasjon og gi et optimalt miljø fritt for kontaminering, for avsetning av belegg. I kjemiske beleggingsprosesser kreves også vakuum til styring av reaktiviteten.

Vakuumkamre spiller en avgjørende rolle i beleggingsprosesser. De skaper det optimale lavtrykksmiljøet som gjør det mulig å avsette tynnfilmer og andre belegg på et underlag. Ved å fjerne oksygen og nitrogen fra kammeret kan beleggingsmaterialet føres inn, fordampes og impregneres på overflaten av et underlag på en kontrollert måte. Vakuumkamre forhindrer også kontaminering fra eksterne kilder, som støv og annet rusk. Dette sikrer høy kvalitet og konsistens på det ferdige produktet.

Det nødvendige vakuumnivået varierer avhengig av kildematerialet og kvaliteten på belegget. Hver metode har ulike krav. For å finne ut hvilket vakuumnivå som passer best til dine behov, kan du kontakte våre Busch-eksperter.

Det er flere fordeler med vakuumbaserte beleggingsmetoder, inkludert:

En ulempe, avhengig av kildematerialet, er at avsetningshastigheten kan være langsom.