Vakuum coating

Vacuum coating, også kendt som tyndfilmsaflejring, er en proces, hvor tynde lag materiale aflejres under vakuum på overfladen af et substrat. Fra metal til træ, plastik og læder. Coatings hjælper med at beskytte mod slitage, friktion, varme og andre barske betingelser.

COBRA- og R5 vakuumpumper opfylder i kombination med PUMA/PANDA vakuumboostere kravene til coating processer. Vi leverer både individuelle vakuumpumper og komplette vakuumsystemer. Der skal tages højde for flere faktorer, når du vælger den rigtige vakuumløsning til din proces.

For at finde ud af, hvilke vakuumpumper der passer bedst til dine behov, kan du bruge vores produktfinder til at sammenligne vores matchende produkter eller kontakte vores Busch eksperter.

Matche produkter til metallurgi industrien:
sammenlign produkter

Matche produkter til analyser og R&D:
sammenlign produkter

Der findes tre hovedtyper af coating.

Fysisk dampaflejring (PVD)

Et flydende eller fast stof fordampes inde i et vakuumkammer og deponeres på overfladen af et substrat. Substratet placeres omhyggeligt i position og roteres for at sikre, at de korrekte områder er dækket. Dette resulterer i en imprægneret coating af høj kvalitet, der ikke splintrer eller revner over tid. Armaturer, smykker og mikroelektronik er blot nogle få eksempler på produkter, der kan have en PVD-coating.

Kemisk dampudfældning (CVD)

CVD-processer bruger en gasformig dampkilde. En flygtig prækursor indføres i et vakuumkammer og opvarmes til en specifik reaktionstemperatur. Når temperaturen stiger, reagerer eller nedbrydes prækursorgassen i substratet og binder sig direkte til materialets overflade. CVD-coating anvendes i Semicon industrien af producenter af solpaneler til at skabe ultratynde film, der er ansvarlige for moderne solcellers ydeevne. Overfladebehandlingsprocessen anvendes også ofte på værktøjsmaskiner og integrerede kredsløb i enheder som telefoner og fjernsyn.

Atomlagsaflejring (ALD)

ALD muliggør præcis og ensartet aflejring af ultratynde lag på en lang række substrater. Der anvendes et særligt sæt tidsstyrede kemiske reaktioner til at skabe en film med en nøjagtighed på atomniveau. Dette resulterer i coatings, der udviser fremragende ensartethed og renhed. Det er en af de mest omfattende typer coating. ALD-coatinger anvendes til forskellige anvendelser, fra indkapsling af kirurgiske anordninger og implantater med titanoxid til metalcoatinger til finmekanik og ur-dele.

Både PVD og CVD er vakuumdeponeringsmetoder. Hovedforskellen mellem dem er, at coating materialet er fast stof eller flydende i PVD-processer og i gasform i CVD-processer. ALD er en specialiseret CVD-formular, der fokuserer på aflejring af materialer et atomlag ad gangen.

Vakuumcoatingsystemer muliggør aflejring af tynde lag af et ønsket coating materiale på et substrat i et vakuummiljø. Dette giver en høj grad af renhed og vedhæftning af coatingen. Vakuum bruges til at muliggøre fordampning af kildematerialer, undgå oxidation og give det optimale miljø uden kontaminering til coating-aflejring. I kemiske overfladebehandlingsprocesser kræves der også vakuum til kontrol af reaktiviteten.

Vakuumkamre spiller en afgørende rolle i overfladebehandlingsprocesser. De skaber det optimale lavtryksmiljø til aflejring af tynde film og andre coatings på et substrat. Ved at fjerne ilt og nitrogen fra kammeret kan coating materialet indføres, fordampes og imprægneres på overfladen af et substrat på en kontrolleret måde. Vakuumkamre forhindrer også kontaminering fra eksterne kilder, såsom støv og andet affald. Dette sikrer høj kvalitet og ensartethed af det færdige produkt.

Det nødvendige vakuumniveau varierer afhængigt af kildematerialet og kvaliteten af coatinglaget. Hver metode har forskellige krav. Kontakt vores Busch eksperter for at finde ud af, hvilket vakuumniveau der passer bedst til dine behov.

Der er flere fordele ved vakuumbaserede coatingmetoder, herunder:

En ulempe, afhængigt af kildematerialet, er, at deponeringshastigheden kan være langsom.