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Produzione di semiconduttori con il vuoto

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Le pompe per vuoto Busch sono utilizzate presso i principali stabilimenti di semiconduttori e sono note per la loro affidabilità. Il risultato di molti anni di ascolto delle esigenze dei nostri partner nel campo dei semiconduttori e dei loro requisiti del processo.

Lasciatevi guidare nella ricerca della soluzione perfetta per i vostri requisiti del processo.

Trovate la vostra soluzione di assistenza per semiconduttori con il Busch Group

Busch Group, leader globale nella tecnologia del vuoto, unisce due marchi esperti: Busch Vacuum Solutions e Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions. Insieme, offrono un portafoglio completo di soluzioni del vuoto e servizi di assistenza su misura per l'industria dei semiconduttori.

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions offre esperienza specializzata negli intervalli di vuoto alto e vuoto ultra alto e nella rivelazione di perdite, in particolare per applicazioni con semiconduttori. Grazie alla sua posizione di lunga data nell'industria dei semiconduttori, Pfeiffer è in grado di offrire la migliore esperienza di assistenza possibile. Che si tratti della rigenerazione di pompe per vuoto o della gestione completa del sotto-reparto produttivo, Pfeiffer garantisce che i processi dei semiconduttori siano in mani sicure.

Servizi per semiconduttori

La Nostra Soluzione per la Produzione DI Semiconduttori

Le soluzioni per vuoto Busch sono la scelta di fiducia per tutte le applicazioni di semiconduttori, nei quali l'elevata affidabilità, il basso costo di proprietà e le comunicazioni attraverso strumenti smart per semiconduttori sono elementi imprescindibili. Dalle camere dei compartimenti di carico ai processi di generazione di particelle più gravosi. Abbiamo fornito i nostri sistemi per vuoto ai principali produttori di semiconduttori del mondo. E con un'assistenza sul posto proveniente da una fonte unica.
VACTEST
Leggere (camere dei compartimenti di carico e di trasferimento, metrologia, litografia)
Medie (processi PVD, pulizia preliminare PVD, RTA, strippaggio/incenerimento, incisione dell'ossido, incisione del silicio)
Gravose (incisione del metallo, sorgente impiantazione, HDP, CVD, RTP, epitassia, SA CVD, MO CVD, PE CVD, LP CVD, ALD)