Ottimizzatori di prestazioni a tenuta stagna per applicazioni di medio e alto vuoto
Affidabilità
Design del lobo speciale per prevenire depositi di polvere e particelle, struttura robusta in materiale GGG40, a tenuta stagna
Prestazioni elevate
Progettata appositamente per applicazioni gravose nell'intervallo di medio e alto vuoto, inclusi i processi di semiconduttori con polveri, eccellente efficienza volumetrica
Flessibilità
Prestazioni affidabili in condizioni di esercizio variabili, incrementa le prestazioni di tutti i tipi di pompe per vuoto iniziale
Specifiche tecniche
Settori e applicazioni
Produzione di schermi piatti
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Deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (PECVD)
Produzione di semiconduttori
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Gravose
Settore dell'energia solare
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Deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (PECVD)