COBRA DS 3181 C
Bomba de vacío de tornillo de funcionamiento en seco
La nueva generación de bombas de vacío secas para procesos exigentes
Alto rendimiento
Diseño avanzado del tornillo, excelentes cualidades de funcionamiento, booster de vacío integrado, perfectas para la deposición química de vapor, los tratamientos térmicos rápidos o la deposición de capas atómicas
Eficientes
Coste de propiedad reducido, mantenimiento mínimo, largos intervalos entre servicios, alto tiempo de actividad, eficaz refrigeración indirecta por agua
Compactas
Diseño adaptable a cada instalación, motor sellado montado directamente, bomba primaria y booster de vacío combinados sobre una bancada compacta
Especificaciones técnicas
Mercados y aplicaciones
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Refinado: adsorción por cambio de presión
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Deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD)
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Cámaras Load Lock
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Diodo orgánico de emisión de luz (OLED)
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Deposición física de vapor (PVD)
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Desgasificación
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Medio
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Duro
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Sencillo
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Cámaras Load Lock
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Deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD)
Accesorios
- Disponible versión de procesamiento de polvo opcional