Lækagetæt ydelsesoptimering til medium og fine vakuumapplikationer
Pålidelig
Særligt kolbedesign for at hindre pulver- og partikelaflejringer, robust konstruktion lavet af GGG40-materiale, lækagetæt
Høj ydeevne
Designet specielt med henblik på grove processer inden for middel- til højvakuumrområdet, herunder semicon processer med pulver og støv, glimrende volumetrisk effektivitet
Fleksibel
Driftssikker ydeevne under meget forskelligartede driftsbetingelser, får alle typer forpumper til at yde endnu mere.
Tekniske specifikationer
Markeder og anvendelser
Produktion af fladskærme
-
Plasma-forbedret kemisk dampaflejring (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD))
Semicon-industri
-
Barsk
Solenergiindustrien
-
Plasma-forbedret kemisk dampaflejring (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD))