Recubrimiento por vacío

El recubrimiento con vacío, también conocido como deposición de película fina, es un proceso en el que se depositan capas finas de material bajo vacío en la superficie de un sustrato. Desde metal hasta madera, plástico y cuero. Los recubrimientos ayudan a proteger contra el desgaste, la fricción, el calor y otras condiciones adversas.

Las bombas de vacío COBRA y R5, en combinación con los boosters de vacío PUMA/PANDA, cumplen los requisitos de los procesos de recubrimiento al vacío. Ofrecemos bombas de vacío individuales, así como sistemas de vacío completos. Se deben tener en cuenta varios factores a la hora de seleccionar la solución de vacío adecuada para su proceso.

Para saber qué bombas de vacío se adaptan mejor a sus necesidades, utilice nuestro buscador de productos para comparar nuestros productos más adecuados o póngase en contacto con nuestros especialistas de Busch.

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Existen tres tipos principales de recubrimiento.

Deposición física de vapor (PVD)

Un material de origen líquido o sólido se vaporiza dentro de una cámara de vacío y se deposita en la superficie de un sustrato. El sustrato se coloca cuidadosamente en su posición y se rota para garantizar que se recubran las áreas correctas. El resultado es un recubrimiento impregnado de alta calidad que no se astillará ni agrietará con el tiempo. Los grifos, las joyas y la microelectrónica son solo algunos ejemplos de productos que pueden tener un recubrimiento de PVD.

Deposición química de vapor (CVD)

Los procesos CVD utilizan una fuente de vapor gaseoso. Se introduce un precursor volátil en una cámara de vacío y se calienta a una temperatura de reacción específica. A medida que aumenta la temperatura, el gas precursor reacciona o se descompone en el sustrato, adhiriéndose directamente a la superficie del material. El recubrimiento CVD se utiliza en la industria de semiconductores por parte de los fabricantes de paneles solares para crear películas ultrafinas responsables del rendimiento de los paneles solares modernos. El proceso de recubrimiento también se suele aplicar a máquinas-herramienta y circuitos integrados en dispositivos como teléfonos y televisores.

Deposición de capa atómica (ALD)

La ALD permite la deposición precisa y uniforme de capas ultrafinas en una variedad de sustratos. Se utiliza un conjunto especial de reacciones químicas temporizadas para crear una película con una precisión a nivel atómico. Esto da como resultado recubrimientos que muestran una excelente uniformidad y pureza. Es uno de los tipos de recubrimiento más completos. Los recubrimientos ALD se utilizan para diversas aplicaciones, desde encapsular dispositivos quirúrgicos e implantes con óxido de titanio hasta recubrimientos metálicos para mecánica fina y piezas de relojería.

Tanto el PVD como el CVD son métodos de deposición al vacío. La principal diferencia entre ellos es que el material de recubrimiento es sólido o líquido en los procesos PVD y en forma gaseosa en los procesos CVD. La ALD es una forma especializada de CVD que se centra en depositar materiales una capa atómica a la vez.

Los sistemas de recubrimiento al vacío permiten la deposición de capas finas de un material de recubrimiento deseado sobre un sustrato en un entorno de vacío. Esto proporciona un alto grado de pureza y adherencia del recubrimiento. El vacío se utiliza para permitir la evaporación de los materiales de origen, evitar la oxidación y proporcionar un entorno óptimo sin contaminación para la deposición de recubrimientos. En los procesos de recubrimiento químico, el vacío también es necesario para el control de la reactividad.

Las cámaras de vacío desempeñan un papel crucial en los procesos de recubrimiento. Crean el entorno de baja presión óptimo para permitir la deposición de películas finas y otros recubrimientos sobre un sustrato. Al eliminar el oxígeno y el nitrógeno de la cámara, el material de recubrimiento puede introducirse, vaporizarse e impregnarse en la superficie de un sustrato de una manera controlada. Las cámaras de vacío también evitan la contaminación de fuentes externas, como el polvo y otros residuos. Esto garantiza una alta calidad y uniformidad del producto acabado.

El nivel de vacío necesario varía en función del material de origen y de la calidad de la capa de recubrimiento. Cada método tiene requisitos diferentes. Para descubrir qué nivel de vacío se adapta mejor a sus necesidades, póngase en contacto con nuestros expertos en productos de Busch.

Los métodos de recubrimiento basados en vacío ofrecen varias ventajas, entre las que se incluyen:

Una desventaja, dependiendo del material de origen, es que la velocidad de deposición puede ser lenta.