Les optimiseurs de performances étanches pour les applications à vide fin et poussé
Fiable
Conception spéciale des lobes pour éviter les dépôts de poudre et de particules, construction robuste en matériau GGG40, étanche
Haute performance
Spécialement conçu pour les applications difficiles dans la plage de vide fin et poussé, y compris les procédés de semi-conducteurs avec poudre et poussière, excellente efficacité volumétrique
Modulable
Performances fiables dans des conditions de fonctionnement variables, améliore les performances de tous les types de pompes primaires
Caractéristiques techniques
Marchés et applications
Fabrication d'écrans plats
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Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
Fabrication de semi-conducteurs
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Lourde
Industrie de l'énergie solaire
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Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)