La nouvelle génération de pompes à vide sèches pour les procédés exigeants
Haute performance
Concept de vis sophistiqué, excellentes qualités de fonctionnement, booster de vide intégré, parfaitement adaptée au dépôt chimique en phase vapeur, au recuit thermique rapide ou au dépôt par couche atomique
Efficace
Faible coût de possession, maintenance minimale, intervalles de maintenance étendus, temps de fonctionnement élevé, refroidissement par eau indirect efficace
Compacte
Conception optimisée, moteur immergé à accouplement direct, pompe primaire et pompe booster combinées sur un châssis compact
Caractéristiques techniques
Marchés et applications
Fabrication d'écrans plats
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Sas de chargement
Applications semi-conducteurs.
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Dépôt en couches atomiques (ALD)
Industrie de l'énergie solaire
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Fabrication de cellules
Accessoires
- Version processus de poudre en option disponible