等離子體塗鍍

顆粒混合物的等離子體狀態常常被稱為物質第四態。正常壓力下,只有將氣體加熱到足夠高的溫度,使其分子轉換為離子和電子時,才會產生等離子體。不過,極低壓力下無需高溫即可形成等離子體。

塗鍍技術利用等離子體沉積活性材料薄膜,例如用於生成鏡像或為元件塗敷不粘塗層。
較為精細的材料不適於高溫工藝,如塑膠、橡膠和天然纖維。欲為這類材料塗敷塗層需使用低壓等離子體,其可於40°C至120°C的溫度間進行操作。物體經過徹底清潔並置於待真空的腔室內。提供所需中、高真空度的真空系統必須絕對可靠,其特性必須符合塗鍍工藝。
隨後將工藝氣體(例如氬)加入腔室內。高頻、微波或電能作用於氣體,引燃等離子火焰。這將塗鍍材料分解成微粒,隨後將其加速。微粒伴隨高能撞擊腔室內的物體,形成均勻表層。透過真空泵浦消除揮發性等離子體副產物,必要時可用廢氣洗滌器中和。


多種Busch產品可用于形成等離子體塗鍍所需的中、高真空度。COBRA系列螺旋轉子真空泵浦的多個型號已經證實尤為適用,亦可與Panda Roots真空助力泵浦組合使用。Fossa渦捲式真空泵浦用於帶有進出片系统的較小等離子體塗鍍設備,可與Zebra迴轉葉片式真空泵浦和Turbo渦輪分子真空泵浦組合用於工藝室。

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