COBRA BC 0601–1200 A/G
Bomba de vácuo de parafuso a seco
A solução ideal para aplicações leves a moderadas em semicondutores
Alto desempenho
Design avançado do parafuso, construção em forma de campânula, parafusos autoequilibrantes patenteados, excelentes características de funcionamento, booster de vácuo integrado, perfeitamente adequadas para processos de deposição de camadas atómicas a frio, bloqueio de carga e câmaras de transferência, metrologia, litografia, deposição física de vapor, recozimento térmico rápido e processos de decapagem como óxido, silício e metal
Eficientes
Baixo custo de propriedade, manutenção mínima, intervalos de manutenção longos, elevado tempo de atividade, refrigeração direta por água
Compacta
Design compacto adaptado ao local de instalação, motor monobloco montado diretamente, bomba primária e booster de vácuo combinados numa estrutura de suporte compacta
Especificações técnicas
Mercados e aplicações
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Em atualização – adsorção por alteração de pressão
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Médio
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Deposição física de vapor (PVD)